Document :

UIT-T�SG 5� (P�riode d'�tudes 2017)� Document Temporaire� 533-GEN

Titre :

A.1 justification for a new work item on K.reflection - "Impact of the metallic structures for the EMF exposure level"

Re�u le :

2018-05-22

Source :

Rapporteur Q3/5

AI/Question :

Q3/5

Disponibilit� :

R�serv� aux utilisateurs TIES�[UIT-T]